Silicon Dioxide angiangi SiO2 angiangi matotoru Orohia, Pirimia me te Tohu Whakamatau

Silicon Dioxide angiangi SiO2 angiangi matotoru Orohia, Prime Me te Whakamātau Tohu Whakaaturanga Whakaahua

Whakaahuatanga Poto:

Ko te waiariki waiariki ko te hua o te whakaatu i te angiangi silicon ki te huinga o nga kaihoko oxidizing me te wera ki te hanga i te paparanga o te silicon dioxide (SiO2). Ko te matotoru o te paparanga waikura, te kiato, te riterite me te nohonga karaihe parenga ka whakatinanahia i runga i nga paerewa a-motu.

Tukuna he imeera ki a matou

Taipitopito Hua

Tohu Hua

Te whakauru o te pouaka angiangi

Hua	Wafers Thermal Oxide (Si+SiO2).
Tikanga Whakaputa	LPCVD
Whakakorikori Mata	SSP/DSP
Diamita	2inihi / 3inihi / 4inihi / 5inihi/ 6inihi
Momo	Momo P / momo N
Papa oxidation thickkess	100nm ~1000nm
Takotoranga	<100> <111>
Te parenga hiko	0.001-25000(Ω•cm)
Taupānga	Ka whakamahia mo te kaikawe tauira iraruke synchrotron, te paninga PVD/CVD hei tïpako, tauira tipu tipu a magnetron, XRD, SEM,Te kaha o te ngota, te hiiwhiowhio infrared, te hiiramatanga rewharewha me etahi atu taputapu whakamatautau tātari, nga taputapu tipu epitaxial kurupae kurupae, te tātari X-hihi o nga semiconductors tioata

Ko nga mea angiangi o te Silicon oxide he kiriata hauhauora silicon i tipu ki runga i te mata o te kirikiri angiangi ma te hāora, te kohu wai ranei i te teitei o te pāmahana (800°C~1150°C) ma te whakamahi i te tukanga waiariki waiariki me nga taputapu ngongo oumu pehanga hau. Ko te matotoru o te tukanga mai i te 50 nanometers ki te 2 microns, ko te paanga o te tukanga ki te 1100 nga nekehanga Celsius, ka wehewehea te tikanga tipu ki te "hauora maku" me te "hauora maroke" e rua nga momo. Ko te Oxide Thermal he paparanga waikura "whakatipu", he teitei ake te rite, he pai ake te whakatoo me te kaha dielectric teitei ake i nga paparanga waikura kua tukuna e te CVD, ka hua te kounga pai ake.

Te Oxygen Oxygen maroke

Ka tauhohe a Silicon ki te hāora, ka neke haere tonu te paparanga waikura ki te paparanga tïpako. Me mahi te waikura maroke i te mahana mai i te 850 ki te 1200°C, me te iti o te tipu o te tipu, ka taea te whakamahi mo te tipu o te kuaha MOS. He pai ake te waikura maroke i te waikura maku ina hiahiatia he paparanga waikura silicon tino kikokore, tino kikokore. Te kaha o te waikura maroke: 15nm~300nm.

2. Wet Oxidation

Ka whakamahia e tenei tikanga te kohu wai hei hanga i te paparanga waikura ma te kuhu ki te ngongo oumu i raro i nga ahuatanga o te pāmahana teitei. Ko te densification o te hāora hāora mākū he paku kino atu i te hāora hāora maroke, engari whakaritea ki te hāora hāora maroke ko tona painga ko te mea he nui ake te tipu o te tipu, e tika ana mo te tipu o te kiriata neke atu i te 500nm. Te kaha hāora mākū: 500nm~2µm.

Ko te ngongo oumu whakapouri o te hau a AEMD he ngongo oumu whakapae Czech, e tohuhia ana e te tino pai o te tukanga, te pai o te rite o te kiriata me te mana matūriki pai ake. Ka taea e te ngongo oumu waikura te tuka ki te 50 nga angiangi mo ia ngongo, me te tino pai o te whakakotahitanga o roto me nga wafers.